Samsung บรรลุการทดสอบ EUV กระบวนการผลิตชิประดับ 5 นาโนเมตรแล้ว

โดย RingRangRung | 17 เมษายน 2562 เมื่อ 10:43 น. | อ่าน 28

Samsung ประกาศความสำเร็จในการพัฒนากระบวนการผลิตชิประดับ 5 นาโนเมตร โดยใช้ประโยชน์จากเทคโนโลยี EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) และพร้อมที่จะรับงานผลิตชิปตัวอย่างให้กับลูกค้าแล้ว

ทาง Samsung ระบุว่าโหนดการผลิตระดับ 5 นาโนเมตร จะทำให้ประสิทธิภาพของการใช้พื้นที่แผ่นซิลิคอนดีขึ้น 25% มีอัตราการใช้พลังงานลดลง 20% หรือถ้ารักษาการใช้พลังงานให้เท่าเดิม สมรรถนะก็จะเพิ่มขึ้น 10% โดยที่โหนดการผลิต 5 นาโนเมตรใช้พื้นฐานกระบวนการพิมพ์หิน EUV ที่เป็นแบบเดียวกันกับการผลิตระดับ 7 นาโนเมตรและตัวชิปเองก็จะถูกผลิตที่โรงงานของ Samsung ในฮวาซ็อง เกาหลีใต้

โดยที่ทางโรงงานเองก็จะขยายกำลังการผลิตในช่วงครึ่งหลังของปี 2019 และเพิ่มกำลังการผลิตขึ้นอีกในช่วงต้นปี 2020 นอกจากชิป 5 นาโนเมตรแล้ว ทาง Samsung ก็ยังมีการทำงานกับผลิตชิประดับ 6 นาโนเมตรด้วยกระบวนการ EUV ให้กับลูกค้าบางราย ซึ่งอาจจะเป็นการผลิตชิปที่ใช้ต้นทุนที่ต่ำกว่าตัว 5 นาโนเมตร และเหมาะสำหรับโปรดักซ์ที่อยู่ในระดับกลางไปถึงกลางค่อนบน

About Author

RingRangRung

RingRangRung

Partners